ASML EUV光源功率衝上千瓦！　拚2030年前晶片產能增50％

【緯來新聞網】荷蘭半導體設備龍頭 ASML 宣布，其研究團隊已成功提升極紫外光刻（EUV）設備的光源功率，預估在 2030 年前可讓晶片產能提高最多 50％，進一步鞏固公司在先進製程設備領域的領先地位。隨著美國與中國積極投入相關技術研發，ASML此舉被視為拉開技術差距、強化競爭優勢的關鍵布局。

（圖／翻攝自 ASML 官網）

ASML是全球唯一一家商用 EUV 設備的製造商，該設備為製造高階運算晶片不可或缺的核心工具，包括台積電與英特爾等晶片大廠皆仰賴其設備推進先進製程。此次技術突破聚焦於 EUV 系統中最具挑戰性的光源模組，成功將輸出功率由目前約 600 瓦提升至 1,000 瓦。在符合客戶量產條件下穩定運作，並非實驗室階段的短期展示成果，功率提高可提升晶片產量，進而降低晶片成本。

負責 NXE 系列 EUV 設備的高層也表示，目標是在 2030 年前，將每台機器每小時晶圓處理量由目前約 220 片提升至約 330 片。依晶片尺寸不同，每片晶圓可生產數十至數千顆晶片。公司同時透露，未來仍具進一步提升至 1,500 瓦甚至更高功率的技術潛力，顯示 EUV 平台的升級空間仍相當可觀。