【緯來新聞網】應用材料(Applied Materials)今(30)日宣布,全球快閃記憶體與 SSD 大廠鎧俠(KIOXIA)將加入其位於矽谷、耗資 50 億美元打造的 EPIC(設備與製程創新暨商業化)中心,共同開發先進記憶體結構、晶片堆疊技術與材料工程,鎖定 AI 時代的高密度、高頻寬記憶體需求。

鎧俠並非 EPIC 中心第一位記憶體夥伴,自 2026 年初啟動以來,已陸續聚集三星、美光、台積電、SK 海力士,以及測試設備商 Advantest 等半導體巨頭,加上多所大學研究夥伴;鎧俠的加入,等於是這個陣容持續擴大的 AI 半導體研發生態圈,再添一員記憶體大將。
雙方合作聚焦四大方向,包括開發更高效能、更高密度的記憶體架構,以及透過晶片堆疊在有限空間內提升密度,再者強化多晶粒記憶體的先進封裝與互連能力,最後將推動可規模化量產的材料工程創新。
應材執行長蓋瑞.迪克森(Gary Dickerson) 表示,AI 基礎設施需要更高密度、更大頻寬且更節能的記憶體方案,正是雙方合作目標;鎧俠社長暨執行長太田裕雄(Hiroo Ota)則透露,雙方合作將推動記憶體創新,實現先進技術突破。
EPIC 中心是美國史上在先進半導體設備研發上規模最大的一筆投資,資本支出隨客戶專案展開,預期逐步增加到約 50 億美元,採「生態系」模式讓晶片製造商、設計公司、設備夥伴與學術機構協同研發,藉此縮短新技術從實驗室走向量產的時間。
這次合作也凸顯 AI 需求正重塑記憶體產業競爭邏輯,從三星、SK 海力士、美光的傳統三強,到中國長鑫存儲、長江存儲快速追趕,如今連應材這樣的上游設備廠,也拉攏大廠進駐研發平台,搶先卡位下一代 AI 記憶體技術主導權。

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