【緯來新聞網】AI 晶片對記憶體的要求不只要快,還要省電、不能過熱,這正是三星電子在 SEMICON Taiwan 2026 記憶體高峰論壇上,想解決的核心問題。三星電子記憶體產品規劃部門副總裁崔璋石(Jangseok Choi)今(1)日揭露下世代 3D 記憶體與儲存解決方案 zHBM、zNAND-O,分別鎖定 AI 資料中心與裝置端 AI 兩種不同應用場景。

目前記憶體問題出在哪?崔璋石指出,傳統 HBM 採 2.5D 架構,記憶體與處理器並排放置,資料在兩者之間傳輸的距離越長,速度跟功耗就越吃虧,而三星提出的解法,是把記憶體直接垂直堆疊在處理器正上方,大幅縮短傳輸距離,這正是 zHBM 的設計核心。
三星表示,跟現行 HBM4E 相比,zHBM 的目標是效能最高提升 8 倍、每瓦效能提升 3 倍,熱阻降低 75%至 90%。
在 zHBM 之前,三星今年 5 月已經先出貨業界首款 12 層 HBM4E 樣品,每顆 GPU 搭配 4 組 HBM4E 堆疊,系統頻寬可達 16 TB/s,較 HBM4 每瓦效能提升 20%、熱阻降低 10%;三星也已著手開發下一代 HBM5 ,目標是效能較 HBM4E 再翻倍、每瓦效能同樣提升 20%、熱阻降低 20%。換句話說,三星的 HBM 路線圖是先在既有架構上逐代優化,再用 zHBM 這種全新 3D 架構做出跳躍式的突破。
儲存端的邏輯也類似,三星先以最新 V10 技術優化既有的 V-NAND 快閃記憶體,位元密度較前一代提升 58%、I/O 速度提升 33%、功耗下降 25%至 26%;接著在此基礎上推出 3D 儲存方案 zNAND-O,透過矽穿孔(TSV)技術把多顆 V-NAND 晶片垂直堆疊,再透過 UCIe 標準介面與神經網路處理器(NPU)整合進單一封裝,位元密度達 DRAM 的 10 倍、讀取頻寬為傳統 NAND Flash 的 7 倍,主打手機、筆電等裝置端 AI 應用,三星規劃 2028 年推出樣品。

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